产品基础背景:该系列由日本不二见(FUJIMI,中文常称福吉米)研发,早在 1975 年福吉米就针对性开发出了砷化镓衬底片精抛抛光相关的 INSEC 系列产品,填补了化合物半导体精密抛光材料的需求空白,历经多年迭代,成为半导体加工领域中该类材料抛光的常用产品针对性强:专门匹配砷化镓、磷化铟等化合物半导体的理化特性。这类材料硬度、脆性特殊,普通研磨粉易造成表面划痕或损伤,而该系列研磨粉能适配其特性,减少加工缺陷。
抛光精度高:作为精密抛光材料,可实现镜面抛光效果,能满足半导体衬底等对表面平整度、光洁度要求极高的加工场景,为后续半导体器件的性能稳定提供保障。
产品基础背景:该系列由日本不二见(FUJIMI,中文常称福吉米)研发,早在 1975 年福吉米就针对性开发出了砷化镓衬底片精抛抛光相关的 INSEC 系列产品,填补了化合物半导体精密抛光材料的需求空白,历经多年迭代,成为半导体加工领域中该类材料抛光的常用产品针对性强:专门匹配砷化镓、磷化铟等化合物半导体的理化特性。这类材料硬度、脆性特殊,普通研磨粉易造成表面划痕或损伤,而该系列研磨粉能适配其特性,减少加工缺陷。
抛光精度高:作为精密抛光材料,可实现镜面抛光效果,能满足半导体衬底等对表面平整度、光洁度要求极高的加工场景,为后续半导体器件的性能稳定提供保障。